Jump to content

Молекулярное осаждение из паровой фазы

Молекулярное осаждение из паровой фазы [ 1 ] [ 2 ] представляет собой газофазную реакцию между поверхностно-реактивными химическими веществами и соответствующей восприимчивой поверхностью. Часто используются бифункциональные силаны , у которых один конец молекулы является реакционноспособным. Например, функциональный хлорсилан (R-Si-Cl 3 ) может реагировать с поверхностными гидроксильными группами (-OH), что приводит к осаждению радикалов (R) на поверхности. Преимущество газофазной реакции перед сопоставимым жидкофазным процессом заключается в контроле влажности окружающей среды, что часто приводит к перекрестной полимеризации силана, приводящей к образованию частиц на обработанной поверхности. Часто нагретая вакуумная камера при температуре ниже атмосферного. [ 3 ] используется для обеспечения точного контроля реагентов и содержания воды. Кроме того, газофазный процесс позволяет легко обрабатывать сложные детали, поскольку покрытие реагента обычно ограничено диффузией. Датчики микроэлектромеханических систем ( МЭМС ) часто используют молекулярное осаждение из паровой фазы в качестве метода решения прилипания и других паразитных проблем, связанных с взаимодействием между поверхностью и поверхностью.

  1. ^ Джефф Чинн, Борис Кобрин, Виктор Фуэнтес, Шрикант Дасарадхи, Ричард Йи, Ромуальд Новак, Роберт Ашерст, Ройя Мабудиан, Молекулярное осаждение из паровой фазы (MVD) - новый метод модификации поверхности наноустройств, Hilton Head 2004: A Семинар по твердотельным датчикам, приводам и микросистемам, 6–10 июня 2004 г.
  2. ^ Б. Кобрин, В. Р. Ашерст, Р. Мабудиан, В. Фуэнтес, Р. Новак, Р. Йи и Дж. Чинн, Техника модификации поверхности MVD, Ежегодное собрание AICHE 2004 г., 8 ноября, Остин, Техас
  3. ^ «Система покрытий РГМ-210» . Архивировано из оригинала 15 ноября 2015 г. Проверено 12 июля 2015 г.


Arc.Ask3.Ru: конец переведенного документа.
Arc.Ask3.Ru
Номер скриншота №: 6a4747f53b2b9bb038b59c6759d54ec3__1708002900
URL1:https://arc.ask3.ru/arc/aa/6a/c3/6a4747f53b2b9bb038b59c6759d54ec3.html
Заголовок, (Title) документа по адресу, URL1:
Molecular vapor deposition - Wikipedia
Данный printscreen веб страницы (снимок веб страницы, скриншот веб страницы), визуально-программная копия документа расположенного по адресу URL1 и сохраненная в файл, имеет: квалифицированную, усовершенствованную (подтверждены: метки времени, валидность сертификата), открепленную ЭЦП (приложена к данному файлу), что может быть использовано для подтверждения содержания и факта существования документа в этот момент времени. Права на данный скриншот принадлежат администрации Ask3.ru, использование в качестве доказательства только с письменного разрешения правообладателя скриншота. Администрация Ask3.ru не несет ответственности за информацию размещенную на данном скриншоте. Права на прочие зарегистрированные элементы любого права, изображенные на снимках принадлежат их владельцам. Качество перевода предоставляется как есть. Любые претензии, иски не могут быть предъявлены. Если вы не согласны с любым пунктом перечисленным выше, вы не можете использовать данный сайт и информация размещенную на нем (сайте/странице), немедленно покиньте данный сайт. В случае нарушения любого пункта перечисленного выше, штраф 55! (Пятьдесят пять факториал, Денежную единицу (имеющую самостоятельную стоимость) можете выбрать самостоятельно, выплаичвается товарами в течение 7 дней с момента нарушения.)