Обратная литография

Иллюстрация традиционной оптической коррекции близости. Синяя Γ -образная форма — это то, что разработчики чипов хотели бы напечатать на пластине, зеленый — форма после применения оптической коррекции близости, а красный контур — то, как форма на самом деле печатается.

В производстве полупроводниковых приборов технология обратной литографии ( ILT ) представляет собой подход к проектированию фотошаблонов . По сути, это подход к решению обратной задачи изображения : рассчитать форму отверстий в фотомаске («источнике») так, чтобы проходящий свет давал хорошее приближение желаемого рисунка («мишени») на освещенном материале. обычно фоторезист . По существу, она рассматривается как задача математической оптимизации особого рода, поскольку обычно аналитического решения не существует. В традиционных подходах, известных как коррекция оптической близости (OPC), «целевая» форма дополняется тщательно настроенными прямоугольниками для создания « манхэттенской формы » для «источника», как показано на иллюстрации. Подход ILT генерирует криволинейные формы для «источника», которые обеспечивают лучшее приближение к «цели».

ILT был предложен в 1980-х годах, однако в то время он был непрактичен из-за огромных требуемых вычислительных мощностей и сложной формы «источника», что представляло трудности для проверки ( проверки правил проектирования ) и производства. Однако в конце 2000-х разработчики начали пересматривать ILT из-за значительного увеличения вычислительной мощности.