Jump to content

Процесс 180 нм

(Перенаправлено с 180 нм )

Процесс 180 нм — это MOSFET ( CMOS ) полупроводниковая технология , которая была коммерциализирована примерно в 1998–2000 годах ведущими полупроводниковыми компаниями, начиная с TSMC. [1] и Фуджицу , [2] затем следуют Sony , Toshiba , [3] Intel , AMD , Texas Instruments и IBM .

Происхождение значения 180 нм является историческим, поскольку оно отражает тенденцию масштабирования на 70% каждые 2–3 года. [ нужна ссылка ] Название формально определено Международной технологической дорожной картой для полупроводников (ITRS).

Некоторые из первых процессоров , изготовленных с использованием этого процесса, включают процессоров Intel Coppermine семейство Pentium III . Это была первая технология, в которой использовалась длина затвора короче, чем у света, используемого в современной литографии , длина волны которого составляла 193 нм. [ нужна ссылка ]

Некоторые более поздние [ когда? ] микропроцессоры и микроконтроллеры (например, PIC ) используют эту технологию, поскольку она обычно недорогая и не требует модернизации существующего оборудования. [ нужна ссылка ] В 2022 году Google спонсировала аппаратные проекты с открытым исходным кодом, используя техпроцесс GlobalFoundries 180-нм MCU (микроконтроллер) на многопроектных пластинах . [4]

В 1988 году исследовательская группа IBM под руководством иранского инженера Биджана Давари изготовила 180   -нм двухзатворный МОП-транзистор с использованием КМОП- процесса. [5] Технология КМОП 180   нм была позже коммерциализирована TSMC в 1998 году. [1] а затем Fujitsu в 1999 году. [2]

Процессоры, использующие технологию производства 180 нм

[ редактировать ]
  1. ^ Jump up to: а б «Технология 0,18 микрон» . ТСМС . Проверено 30 июня 2019 г.
  2. ^ Jump up to: а б 65-нм техпроцесс КМОП
  3. ^ Jump up to: а б «EMOTION ENGINE И ГРАФИЧЕСКИЙ СИНТЕЗАТОР, ИСПОЛЬЗУЕМЫЙ В ЯДРЕ PLAYSTATION, СТАНОВЯТСЯ ОДНИМ ЧИПОМ» (PDF) . Сони . 21 апреля 2003 года . Проверено 26 июня 2019 г.
  4. ^ «Google финансирует челноки по производству кремния с открытым исходным кодом для GlobalFoundries PDK» . Блог Google с открытым исходным кодом . Проверено 16 ноября 2022 г.
  5. ^ Давари, Бижан ; и др. (1988). «Высокоэффективная КМОП-технология 0,25 мкм». Технический дайджест, Международная встреча по электронным устройствам . стр. 56–59. дои : 10.1109/IEDM.1988.32749 . S2CID   114078857 .
Предшественник
250 нм
КМОП Процессы производства Преемник
130 нм
Arc.Ask3.Ru: конец переведенного документа.
Arc.Ask3.Ru
Номер скриншота №: c871991abb26bf053bb50faa9f3df864__1701384600
URL1:https://arc.ask3.ru/arc/aa/c8/64/c871991abb26bf053bb50faa9f3df864.html
Заголовок, (Title) документа по адресу, URL1:
180 nm process - Wikipedia
Данный printscreen веб страницы (снимок веб страницы, скриншот веб страницы), визуально-программная копия документа расположенного по адресу URL1 и сохраненная в файл, имеет: квалифицированную, усовершенствованную (подтверждены: метки времени, валидность сертификата), открепленную ЭЦП (приложена к данному файлу), что может быть использовано для подтверждения содержания и факта существования документа в этот момент времени. Права на данный скриншот принадлежат администрации Ask3.ru, использование в качестве доказательства только с письменного разрешения правообладателя скриншота. Администрация Ask3.ru не несет ответственности за информацию размещенную на данном скриншоте. Права на прочие зарегистрированные элементы любого права, изображенные на снимках принадлежат их владельцам. Качество перевода предоставляется как есть. Любые претензии, иски не могут быть предъявлены. Если вы не согласны с любым пунктом перечисленным выше, вы не можете использовать данный сайт и информация размещенную на нем (сайте/странице), немедленно покиньте данный сайт. В случае нарушения любого пункта перечисленного выше, штраф 55! (Пятьдесят пять факториал, Денежную единицу (имеющую самостоятельную стоимость) можете выбрать самостоятельно, выплаичвается товарами в течение 7 дней с момента нарушения.)